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米JFK空港の入国審査にNECの顔認証システム 世界最速の照合精度

米JFK空港の入国審査にNECの顔認証システム 世界最速の照合精度

アメリカの主要空港の入国審査用の自動ゲートエリアのイメージ(参考画像:DFW International Airport)

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 米ジョン・F・ケネディ国際空港(JFK空港、ニューヨーク州)で現在、NEC(東京都港区)が開発した高度な顔認証技術を使う入国審査用システムが稼働している。

 国土安全保障省と税関・国境取締局(CBP)による全米の国際空港の出入国管理体制強化とスムーズな入国審査の実現を目指すプロジェクトの一環。今年1月、現地システムインテグレーターの米ユニシスによるシステム導入が正式発表され、現在までに同空港の入国審査で本格稼働が始まっている。

 顔認証システムはNECが開発した「NeoFace(ネオフェース)」。空港の入国審査用の自動ゲート(ユニシスが設置)で読み取ったパスポートの顔写真の画像データと、ゲートに備え付けられたカメラで撮影した旅行者の顔写真を照合し、同一人物であるかどうかをリアルタイムに判定する。NECによると、同認証技術は米国立標準技術研究所が実施したベンチマークテストで世界最速の照合精度と評価を受けており、今回のJFK空港導入に先立って、ブラジルの主要14国際空港における税関業務などを含む世界40カ国以上で導入されているという。

 JFK空港のシステム運用の対象は、米国のビザ免除プログラムを使って初めて米国に入国する旅行者と、電子旅券「eパスポート」を保有する米国籍の帰国者。

 「NeoFace」技術を活用する顔認証システムは今月、成田国際空港(千葉県成田市)の職員向け保安検査でも実証実験が行われている。空港職員の顔画像とセキュリティーゲートに設置したカメラで撮影した顔画像の照合を、被検査者が歩いたままの状態で可能にする「ウォークスルー顔認証システム」で、スムーズな保安検査の実施とIDカードの貸し借りや盗難によるなりすましによる不正通過も防止を実現できる。同社は今後も内外の空港での同技術の応用を拡大し、航空保安体制の強化に役立てたいとしている。

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